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半導體烘烤設備

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全氟辛基三氯硅烷涂膠機，抗粘劑PFTS烘箱

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更新日期
2025-09-16

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冷熱沖擊測試機，冷熱循環氣流儀

冷熱沖擊測試機，冷熱循環氣流儀在短的時間內（約10秒）檢測樣品因高低溫冷熱沖擊（）-65℃～220℃）所引起的化學變化和物理傷害，減少測試與驗證時間，快速提高產品研發和生產效率。廣泛應用于通信、半導體、芯片、傳感器等領域。

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更新日期
2025-09-16

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快速熱處理退火爐，半導體RTP快速退火爐可用于硅及其他化合物材料離子注入后的退火，硅化物形成，歐姆接觸制備以及快速氧化，快速氮化等方面。該設備具有很好的長時間工作穩定性以及快速升降溫，慢速升降溫功能

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更新日期
2025-09-16

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不銹鋼無塵烤箱，雙層無塵烘箱

不銹鋼無塵烤箱，雙層無塵烘箱應用于目前關鍵的半導體電子行業（如硅片干燥，堅膜烘烤，裝片機后道烘烤，塑封后烘烤，治具烘烤等），另外，雙層無塵烘箱還在LED制造行業中用于烘烤玻璃基板、無機材料行業中用于材料高精度工序。

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更新日期
2025-09-16

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無氧烘箱，無氧化烘箱

無氧烘箱，無氧化烘箱在半導體集成電路制造過程中，晶圓表面預處理、涂膠、曝光前后的烘焙即曝光后烘烤（Post Exposure Bake，PEB）、對準、顯影、顯影后烘焙等因素都會對光刻工藝效果帶來顯著影響

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2025-09-16

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