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半導體烘烤設備

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前烘潔凈烘箱，半導體工藝烤箱

前烘潔凈烘箱，半導體工藝烤箱，用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤，強制送風循環方式。

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更新日期
2025-09-16

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半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱

半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環。經耐高溫高效空氣過濾器過濾，使烘箱工作室內處于無塵狀態。

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2025-09-16

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半導體工藝潔凈烘箱，百級無塵烘箱

半導體工藝潔凈烘箱，百級無塵烘箱具有*設計的強鼓風循環系統確保了溫度的穩定性，高效循環過濾系統確保箱內的潔凈度,控溫裝置采用 PID 數顯控溫（可選觸摸屏等），直觀醒目，設有可靠性保護裝置。

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2025-09-16

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HMDS烘箱，半導體工藝HMDS設備

HMDS烘箱，半導體工藝HMDS設備有可自動吸取添加HMDS功能，智能型的程式設定，一鍵完成作業。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。

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2025-09-16

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RTP快速退火爐，半導體工藝快速熱處理設備

RTP快速退火爐，快速熱處理設備（RTP）簡介快速熱處理設備（RTP）可用于砷化鎵、硅以及其他半導體材料，離子注入后的退火、硅化物的形成、歐姆接觸制備以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP快速退火爐，快速熱處理設備（RTP）具有快速升降溫、慢速升降溫、和長工作時間穩定等特點。也可用于各種半導體材料的CVD工藝的熱處理。

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2025-09-16

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